Geeignet fir Hitachi KM11 Uelegdrocksensor EX200-2-3-5
Produit Aféierung
Véier Drock Technologien vun Drock Sensor
1. Kapazitiv
capacitive Drock Sensoren ginn normalerweis vun enger grousser Zuel vun OEM professionnelle Uwendungen favoriséiert. D'Erkennung vun der Kapazitanzännerungen tëscht zwou Flächen erlaabt dës Sensoren extrem nidderegen Drock- a Vakuumniveauen ze spieren. An eiser typescher Sensorkonfiguratioun besteet e kompakte Gehäuse aus zwee enk opgedeelt, parallel an elektresch isoléiert Metalloberflächen, vun deenen een am Wesentlechen eng Membran ass, déi liicht ënner Drock béie kann. Dës fest fix Flächen (oder Placke) si montéiert sou datt d'Biege vun der Versammlung d'Lück tëscht hinnen ännert (tatsächlech e variabelen Kondensator bilden). Déi doraus resultéierend Ännerung gëtt vun engem sensiblen linear Comparator Circuit mat (oder ASIC) festgestallt, déi e proportional héich-Niveau Signal verstäerkt an erausginn.
2.CVD Typ
chemesch Dampdepositioun (oder "CVD") Fabrikatiounsmethod verbënnt Polysilisiumschicht op Edelstol Membran op molekulare Niveau, produzéiert domat Sensor mat exzellenter laangfristeg Driftleistung. Gemeinsam Batchveraarbechtung Halbleiter-Fabrikatiounsmethoden gi benotzt fir Polysilisium-Belaaschtungsbrécke mat exzellenter Leeschtung zu engem ganz verstännege Präis ze kreéieren. CVD Struktur huet exzellent Käschte Leeschtung an ass de beléifste Sensor an OEM Uwendungen.
3. Sputtering Film Typ
Sputtering Filmdepositioun (oder "Film") kann e Sensor mat maximaler kombinéierter Linearitéit, Hysteresis a Widderhuelbarkeet erstellen. D'Genauegkeet kann esou héich wéi 0,08% vun der voller Skala sinn, während de laangfristeg Drift all Joer sou niddereg wéi 0,06% vum voller Skala ass. Aussergewéinlech Leeschtung vu Schlësselinstrumenter - eise sputtered dënn Film Sensor ass e Schatz an der Drock Sensing Industrie.
4.MMS Typ
Dës Sensoren benotzen Mikro-machinéiert Silizium (MMS) Membran fir Drockännerungen z'entdecken. D'Silicium-Diaphragma gëtt vum Medium duerch den Ueleggefëllten 316SS isoléiert, a si reagéiere a Serie mam Prozessflëssegkeetsdrock. MMS Sensor adoptéiert gemeinsam Halbleiter Fabrikatiounstechnologie, déi héich Spannungsresistenz, gutt Linearitéit, exzellent thermesch Schockleistung a Stabilitéit an engem kompakten Sensorpaket erreechen kann.